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7nmノード以降の先端半導体製造に向け装置の国産化も視野に 沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹積教授は2024年7月、小型EUV(極端紫外線)光源で動作する「EUVリソグラフィー先端半導体製造技術」を開発したと発表した。この技術を用いると、消費電力を従来の10分の1以下にでき、装置コストも削減可能だという。 AI(人工知能)サーバ用GPUやモバイル機器に向けた高機能LSI、大容量DRAMとい …