擬定常状態光伝導度測定法で、加工ダメージを簡便かつ短時間で評価 産業技術総合研究所(産総研)電子光基礎技術研究部門の布村正太上級主任研究員らは2024年8月、名古屋大学低温プラズマ科学研究センターと共同で、プラズマ加工による半導体素子へのダメージ量を、簡便かつ短時間で定量評価することに成功したと発表した。 シリコントランジスタは、微細加工技術の進化により高性能化や高集積化に対応してきた。ただ、プラ …
擬定常状態光伝導度測定法で、加工ダメージを簡便かつ短時間で評価 産業技術総合研究所(産総研)電子光基礎技術研究部門の布村正太上級主任研究員らは2024年8月、名古屋大学低温プラズマ科学研究センターと共同で、プラズマ加工による半導体素子へのダメージ量を、簡便かつ短時間で定量評価することに成功したと発表した。 シリコントランジスタは、微細加工技術の進化により高性能化や高集積化に対応してきた。ただ、プラ …