2025年度までに開発を完了、2027年度には量産開始へ 大日本印刷(DNP)は2024年3月、EUV(極端紫外線)リソグラフィに対応する、2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に始めたと発表した。2025年度までに開発を終えて、2027年度には量産を始める予定。 DNPは、2016年に約26万本の電子ビーム照射が可能な「マルチ電子ビームマスク描画装置」を導入するなど …
2025年度までに開発を完了、2027年度には量産開始へ 大日本印刷(DNP)は2024年3月、EUV(極端紫外線)リソグラフィに対応する、2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に始めたと発表した。2025年度までに開発を終えて、2027年度には量産を始める予定。 DNPは、2016年に約26万本の電子ビーム照射が可能な「マルチ電子ビームマスク描画装置」を導入するなど …