NVIDIAは3月18日(米国時間)、TSMCとSynopsysが、次世代の高度な半導体チップ製造の加速に向けて、NVIDIAのコンピュテーショナルリソグラフィプラットフォーム「NVIDIA cuLitho」を活用する形での半導体生産を開始することを発表した。 半導体の製造には、マスクを介して回路パターンを形成するが、微細化が進むにつれて回路パターンの形成が難しくなり、光近接効果補正(OPC)技術 …
NVIDIAは3月18日(米国時間)、TSMCとSynopsysが、次世代の高度な半導体チップ製造の加速に向けて、NVIDIAのコンピュテーショナルリソグラフィプラットフォーム「NVIDIA cuLitho」を活用する形での半導体生産を開始することを発表した。 半導体の製造には、マスクを介して回路パターンを形成するが、微細化が進むにつれて回路パターンの形成が難しくなり、光近接効果補正(OPC)技術 …