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東京工業大学(東工大)と東京応化工業(TOK)は8月22日、線幅10nm以下の半導体微細加工を可能にする高分子ブロック共重合体の開発に成功したことを発表した。 同性かは、東工大 物質理工学院 材料系の早川晃鏡 教授、同 畠山歓 助教、同 難波江裕太 准教授、同 前川伸祐 大学院生、TOKの佐藤和史氏、太宰尚宏氏、瀬下武広氏らの研究グループによるもの。詳細は2024年7月6日付の「Nature Co …