Intelは4月18日(米国時間)、米国オレゴン州ヒルズボロにある同社の研究開発施設に導入したASMLの商用高NA(NA=0.55) EUV露光装置置「TWINSCAN EXE:5000」の組み立てが完了したことを発表した。 Intelでは、将来的なプロセス技術ロードマップ上にある製品製造に備えて、現在、同露光装置は校正工程にあると説明しており、2020年代後半にかけてIntel 18Aの先にある …
Intelは4月18日(米国時間)、米国オレゴン州ヒルズボロにある同社の研究開発施設に導入したASMLの商用高NA(NA=0.55) EUV露光装置置「TWINSCAN EXE:5000」の組み立てが完了したことを発表した。 Intelでは、将来的なプロセス技術ロードマップ上にある製品製造に備えて、現在、同露光装置は校正工程にあると説明しており、2020年代後半にかけてIntel 18Aの先にある …