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三菱ケミカルグループは12日、九州事業所・福岡地区(北九州市八幡西区)に半導体フォトレジスト材料の製造設備を新設すると発表した。先端半導体の需要増や、事業継続計画(BCP)に対応する。 フッ化アルゴン(ArF)フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線(EUV)フォトレジスト用同ポリマーの設備を25年9月に稼働する予定。ArFフォトレジスト用同ポリマーは生産能力が2倍以上に …