第一原理計算と同程度精度で、10万倍以上という高速で実行 レゾナックは2024年8月、AI(人工知能)を活用した最新のシミュレーション技術を用い、CMPスラリーによる半導体回路の研磨メカニズムを解明したと発表した。一般的な計算手法である「第一原理計算」では1000年以上かかる計算を、同程度の精度を維持しつつ100時間で実行するため、新材料の開発期間を大幅に短縮できるという。 半導体用新材料の開発工 …
第一原理計算と同程度精度で、10万倍以上という高速で実行 レゾナックは2024年8月、AI(人工知能)を活用した最新のシミュレーション技術を用い、CMPスラリーによる半導体回路の研磨メカニズムを解明したと発表した。一般的な計算手法である「第一原理計算」では1000年以上かかる計算を、同程度の精度を維持しつつ100時間で実行するため、新材料の開発期間を大幅に短縮できるという。 半導体用新材料の開発工 …