もっと詳しく

VLSIシンポジウム 2024におけるプロセス・デバイス技術分野(従来のVLSI Technology Symposium)の採択論文数は95件。そのうち、今回はデバイス・プロセス部門の注目論文の最後として高密度2.5D実装および3Dトランジスタ垂直積層に向けた3件の取り組みを紹介する。 Foveros Face-to-Faceアーキテクチャによるシリコンインターポーザと高密度MIMキャパシタ集積 …