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東京エレクトロン(TEL)は7月8日、EUV露光による極微細なパターニング工程において、ガス分子を結合しクラスター化することで、高いエネルギーをもちながら表面のダメージを抑えて処理する技術であるガスクラスタービーム(GCB)により線幅の加工と形状の補正を行う装置「Acrevia」を発売すると発表した。 同装置は、独自のGCB技術を活用することにより、これまで以上に低ダメージ加工を実現できるようにな …