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トッパンフォトマスク(東京都港区、二ノ宮照雄社長)は7日、米IBMと極端紫外線(EUV)リソグラフィーを使用した2ナノメートル(ナノは10億分の1)ロジック半導体製造技術対応のフォトマスク(半導体回路の原版)に関する共同研究開発契約を結んだと発表した。開発期間は2月からの5年間。次世代半導体向け高NA(開口数)EUVを含む。2ナノメートルノード以細の半導体量産に向けたソリューションの提供を目指す。 …