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imecとASMLは6月3日(欧州時間)、ASMLの本社があるオランダのフェルトホーフェンに共同で運営する「High NA EUV Lithography Lab」を開設したことを発表した。 同ラボは、最先端のロジックおよびメモリメーカーならびに先端料および製造装置メーカーに、プロトタイプの高NA(NA=0.55) EUV露光装置(TWINSCAN EXE:5000)と周辺プロセス処理および計測ツ …