リンテックは2023年12月12日、次世代半導体の微細回路形成に不可欠な防塵(じん)材料であるEUV(Extreme Ultraviolet、極端紫外線)露光機用ペリクルの要素技術を開発したと発表した。 ペリクルは、フォトマスク(回路パターンの原版)に異物が付くことを防ぐ防塵膜の役割を担う部材だ。従来はポリシリコンなどをベースにしていたが、CNT(カーボンナノチューブ)製のペリクルが近年は注目を集 …
リンテックは2023年12月12日、次世代半導体の微細回路形成に不可欠な防塵(じん)材料であるEUV(Extreme Ultraviolet、極端紫外線)露光機用ペリクルの要素技術を開発したと発表した。 ペリクルは、フォトマスク(回路パターンの原版)に異物が付くことを防ぐ防塵膜の役割を担う部材だ。従来はポリシリコンなどをベースにしていたが、CNT(カーボンナノチューブ)製のペリクルが近年は注目を集 …