産業技術総合研究所(産総研)は3―5年後をめどに極端紫外線(EUV)露光装置を使った先端半導体の研究開発拠点を開設する。米インテルがEUV技術の製造ノウハウなどの部分で協力する。投資額は数百億円とみられる。国内の半導体製造装置や半導体材料メーカーがEUV向けの技術開発に取り組めるように環境を整備する。 新しい研究開発拠点では企業が利用料を支払い、EUV露光装置を使った製造装置や材料の試作や試験がで …
産業技術総合研究所(産総研)は3―5年後をめどに極端紫外線(EUV)露光装置を使った先端半導体の研究開発拠点を開設する。米インテルがEUV技術の製造ノウハウなどの部分で協力する。投資額は数百億円とみられる。国内の半導体製造装置や半導体材料メーカーがEUV向けの技術開発に取り組めるように環境を整備する。 新しい研究開発拠点では企業が利用料を支払い、EUV露光装置を使った製造装置や材料の試作や試験がで …