ベルギーimecは、2月25-29日に米国カリフォルニア州サンノゼで開催されているSPIE主催の「Advanced Lithography + Patterning Conference 2024」にて、EUVプロセスをはじめ、EUVマスク、および高NA EUVリソグラフィを可能にするために用意された計算リソグラフィ、レジストと下地層の開発、EUVマスク、光近接効果補正(OPC)の開発、解像度フィ …
ベルギーimecは、2月25-29日に米国カリフォルニア州サンノゼで開催されているSPIE主催の「Advanced Lithography + Patterning Conference 2024」にて、EUVプロセスをはじめ、EUVマスク、および高NA EUVリソグラフィを可能にするために用意された計算リソグラフィ、レジストと下地層の開発、EUVマスク、光近接効果補正(OPC)の開発、解像度フィ …