東北大学と慶應義塾大学は2024年6月20日、ジルコニウムテルライド(ZrTe5)を用いて、大面積な薄膜を製造する新しい手法を開発したと発表した。ZrTe5は一次元原子鎖が弱い分子間力でつながる「擬一次元ファンデルワールス物質(quasi1D−vdW)」の1つで、量子効果の増幅や高い熱電性能などの特性から半導体デバイスへの応用が注目されている。 この手法は、遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD)の大 …
東北大学と慶應義塾大学は2024年6月20日、ジルコニウムテルライド(ZrTe5)を用いて、大面積な薄膜を製造する新しい手法を開発したと発表した。ZrTe5は一次元原子鎖が弱い分子間力でつながる「擬一次元ファンデルワールス物質(quasi1D−vdW)」の1つで、量子効果の増幅や高い熱電性能などの特性から半導体デバイスへの応用が注目されている。 この手法は、遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD)の大 …