大日本印刷(DNP)は3月27日、半導体製造の最先端プロセスの製造に用いられるEUVリソグラフィに対応する2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したことを発表した。 併せてRapidusが参画している新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、同製造プロセスおよび保証にかかわる技術の提 …
大日本印刷(DNP)は3月27日、半導体製造の最先端プロセスの製造に用いられるEUVリソグラフィに対応する2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したことを発表した。 併せてRapidusが参画している新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、同製造プロセスおよび保証にかかわる技術の提 …