フォトマスクの保護フィルムであるペリクル付きEUVリソグラフィ向けフォトマスク 大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。 同社では、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発をすでに開始している。さらなる微細化のニーズに応えるた …
フォトマスクの保護フィルムであるペリクル付きEUVリソグラフィ向けフォトマスク 大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。 同社では、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発をすでに開始している。さらなる微細化のニーズに応えるた …