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この記事は、2024年2月15日に発行した「モノづくり総合版 メールマガジン」に掲載されたコラムの転載です。 ※この記事は、「モノづくり総合版 メールマガジン」をお申し込みになると無料で閲覧できます。 2nm以下ノードの微細プロセス実現に向けて期待されている高NA(開口数)EUV(極端紫外線)露光装置のプロトタイプ「TWINSCAN EXE:5000」の初号機が、昨年末、ついにASMLからInte …